スポット ウィンドウは非常に強力なツールであり、アートワークを分離するためによく使用されます。ただし、特定の領域を分離する際にデザインの一部を削除するため、後で分離プロセスに役立つマスクの作成にも非常に適しています。これにより、非常にきれいな分離が可能になります。
デザインを分離する前にマスキング デザインの利点について知りたい場合は、ここをクリックしてください。
スポット ウィンドウにまだ慣れていない場合は、ここで詳細を学ぶことができます。
- [個別メニュー] > [スポット] に移動して、 [スポット ウィンドウ]を開きます。
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ピペット ツールを使用して、マスクしたい色を選択します。この色は、ツール パレットの前景色に表示されます。
- デザインウィンドウのビューを分割します。
- スポット ウィンドウの [新規] ボタンと [プレビュー] ボタンをクリックします。
- プレビューされる分離は色調になります。 「深さ」ボタンをクリックして、ソリッド分離に変換します。
- 望ましい結果が得られるようにガンマ カーブを調整します。
- 「修正」をクリックして分離を修正します。
このレイヤーをレイヤー パレットから選択パレットにドラッグするだけで、選択範囲に変換できるようになりました。
消去
ヒント: 複数のマスクを作成する場合は、各マスク レイヤーを区別しやすくするために、固定レイヤーに名前を付けることをお勧めします。これらの名前を選択パレットにドラッグすると、その名前が選択パレットに引き継がれます。
分離を開始する準備ができたら、利用可能な分離方法を使用する前に、関連する選択項目をデザイン ウィンドウにドラッグするだけです。